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真空电镀设备中对底涂层的要求

作者:admin    来源:未知    发布时间:2018/7/3    

真空镀膜设备对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力,真空电镀设备热膨胀系数相差小,不起反应,流平性能好。

真空电镀设备具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。真空电镀设备成膜性能好,真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。真空电镀设备与面涂层有良好的相溶性。真空电镀设备由于镀膜层极薄有孔隙,要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。

真空电镀设备施涂性能良好。真空电镀设备流平性能良好,有适当的黏度、固化时间短。真空电镀设备与镀膜层要有良好的接触性能;真空电镀设备与底涂层要有一定的相溶性;真空电镀设备成膜性能与施涂性能优良;真空电镀设备具有适当的机械强度;真空电镀设备防潮、抗溶剂、耐真空电镀设备腐蚀性能好。抗老化性能强。

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